Fotoresist

Uit Wikipedia, de vrije encyclopedie
Ga naar: navigatie, zoeken

Een fotoresist is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:

  • Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden worden door de ontwikkelvloeistof weggespoeld.
  • Een positief resist (PR) wordt juist oplosbaar onder invloed van licht. De afgedekte delen blijven na het spoelen over.