Physical vapor deposition

Uit Wikipedia, de vrije encyclopedie
Ga naar: navigatie, zoeken
IJskristalafzetting (rijp) op een boom is een natuurlijk PVD-proces.

Physical vapor deposition, afkorting PVD, is het fysisch aanbrengen van een stof door dampafzetting.

Onderverdeling[bewerken]

Het opdampproces kan zo worden onderverdeeld:

  • Bij gereduceerde atmosferische druk:
    • Physical vapor deposition (PVD).
    • Sputteren (ionplating/ionenimplantatie): In een plasma wordt een potentiaalverschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak.
    • Pulsed laser deposition (PLD): Een pulserende laser dient als energiebron.
  • Bij normale druk:
    • Thin-film deposition (dunnelaagafzetting): Opdampproces waarbij, net als met rijp, materiaal op een substraat (ondergrond) aangroeit.

Werkingsprincipe[bewerken]

Op het al dan niet verwarmde substraat wordt als gevolg van een fysische reactie, waarbij een materiaal overgaat van de vaste naar de damptoestand, opgedampt of neergeslagen.

Toepassingen[bewerken]

Zie ook[bewerken]