Physical vapor deposition

Uit Wikipedia, de vrije encyclopedie
Ga naar: navigatie, zoeken
IJskristalafzetting (rijp) op een boom is een natuurlijk PVD-proces

Physical vapor deposition, afkorting PVD, is het fysisch aanbrengen van een stof door dampafzetting.

Onderverdeling[bewerken]

Het opdampproces kan als volgt worden onderverdeeld.

  • Bij gereduceerde atmosferische druk:
    • physical vapor deposition (PVD)
    • sputteren (ionplating/ionenimplantatie): in een plasma wordt een potentiaalverschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak
    • pulsed laser deposition (PLD): een pulserende laser dient als energiebron
  • Bij normale druk:
    • thin-film deposition (dunnelaagafzetting): opdampproces waarbij, net als met rijp, materiaal op een substraat (ondergrond) aangroeit

Werkingsprincipe[bewerken]

Op het al dan niet verwarmde substraat wordt als gevolg van een fysische reactie, waarbij een materiaal overgaat van de vaste naar de damptoestand, opgedampt of neergeslagen.

Toepassingen[bewerken]

Zie ook[bewerken]