Bestand:Locos (microtechnology) process.svg

Pagina-inhoud wordt niet ondersteund in andere talen.
Uit Wikipedia, de vrije encyclopedie

Oorspronkelijk bestand ‎(SVG-bestand, nominaal 512 × 796 pixels, bestandsgrootte: 27 kB)


Wikimedia Commons Logo Dit is een bestand van Wikimedia Commons.
Onderstaande beschrijving komt van de beschrijving van het bestand daar.

Beschrijving

Beschrijving
English: The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures.

I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, nitride mask IV. Etching of nitride layer and silicon oxide layer V. Thermal growth of silicon oxide VI. Furhter growth of thermal silicon oxide VII. Removal of nitride mask

1) Si, silicon substrate 2) SiO2, pad/buffer oxide, chemical vapor deposition silicon oxide 3) Si3N4, nitride mask

4) SiO2, isolation oxide, thermal oxide
Datum
Bron Eigen werk
Auteur Twisp

Licentie

Public domain Ik, de auteursrechthebbende van dit werk, geef dit werk vrij in het publieke domein. Dit is wereldwijd van toepassing.
In sommige landen is dit wettelijk niet mogelijk; in die gevallen geldt:
Ik sta iedereen toe dit werk voor eender welk doel te gebruiken, zonder enige voorwaarden, tenzij zulke voorwaarden door de wet worden voorgeschreven.

Bijschriften

Beschrijf in één regel wat dit bestand voorstelt

Items getoond in dit bestand

beeldt af

Bestandsgeschiedenis

Klik op een datum/tijd om het bestand te zien zoals het destijds was.

Datum/tijdMiniatuurAfmetingenGebruikerOpmerking
huidige versie14 dec 2009 21:02Miniatuurafbeelding voor de versie van 14 dec 2009 21:02512 × 796 (27 kB)Cepheidensome fixes
19 jan 2008 18:53Miniatuurafbeelding voor de versie van 19 jan 2008 18:53625 × 1.000 (56 kB)Twisp{{Information |Description= {{en|The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures. I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, ni

Dit bestand wordt op de volgende pagina gebruikt:

Globaal bestandsgebruik

De volgende andere wiki's gebruiken dit bestand:

Overgenomen van "https://nl.wikipedia.org/wiki/Bestand:Locos_(microtechnology)_process.svg"