Fotoresist: verschil tussen versies
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
k robot Erbij: uk:Фоторезист |
k robot Erbij: ru:Фоторезист |
||
| Regel 12: | Regel 12: | ||
[[it:Photoresist]] |
[[it:Photoresist]] |
||
[[ja:フォトレジスト]] |
[[ja:フォトレジスト]] |
||
[[ru:Фоторезист]] |
|||
[[uk:Фоторезист]] |
[[uk:Фоторезист]] |
||
[[zh:光阻]] |
[[zh:光阻]] |
||
Versie van 31 mrt 2008 01:34
Een fotoresist is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:
- Een positief resist (PR) wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen.
- Een negatief resist (NR) wordt net hard door licht; door de ontwikkelingsvloeistof worden de delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden, weggespoeld.