Physical vapor deposition: verschil tussen versies
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
k Titel van Physical vapour deposition gewijzigd in Physical vapor deposition: tikfout |
-hoofdletters details |
||
| Regel 1: | Regel 1: | ||
{| align=right |
{| align=right |
||
|- |
|- |
||
[[Image:Windbuchencom.jpg|right|thumb|350px|[[IJskristal]] afzetting (rijp) op een boom is een natuurlijk PVD |
[[Image:Windbuchencom.jpg|right|thumb|350px|[[IJskristal]] afzetting (rijp) op een boom is een natuurlijk PVD-proces.]] |
||
|- |
|- |
||
|} |
|} |
||
''' |
'''Physical vapor deposition''', [[acroniem]] '''PVD''', is het fysisch aanbrengen van een stof door dampafzetting. |
||
==Onderverdeling== |
==Onderverdeling== |
||
Het opdampproces kan zo worden onderverdeeld: |
Het opdampproces kan zo worden onderverdeeld: |
||
* Bij gereduceerde atmosferische druk: |
* Bij gereduceerde atmosferische druk: |
||
** '''Physical vapor deposition''' (PVD). |
|||
** '''PVD''' (''Physical Vapor Deposition'') |
|||
** '''[[Sputteren]]''' ('''ionplating'''/'''ionenimplantatie'''): In een [[Plasma (aggregatietoestand)|plasma]] wordt een [[potentiaal]]verschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak. |
** '''[[Sputteren]]''' ('''ionplating'''/'''ionenimplantatie'''): In een [[Plasma (aggregatietoestand)|plasma]] wordt een [[potentiaal]]verschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak. |
||
**' |
**'''Pulsed laser deposition''' (PLD): Een [[pulserend]]e [[laser (licht)|laser]] dient als energiebron. |
||
* Bij normale druk: |
* Bij normale druk: |
||
*'''Thin- |
**'''Thin-film deposition''' (dunne laag afzetting): Opdampproces waarbij, net als met [[rijp]], materiaal op een substraat (ondergrond) aangroeit. |
||
==Werkingsprincipe== |
==Werkingsprincipe== |
||
Op het al dan niet verwarmde substraat wordt als gevolg van een |
Op het al dan niet verwarmde substraat wordt als gevolg van een ''[[Fysische chemie|fysische]]'' reactie, waarbij een materiaal overgaat van de vaste naar de damptoestand, opgedampt of neergeslagen. |
||
==Toepassingen== |
==Toepassingen== |
||
*'''[[Coaten]]''' van [[elektrisch geleidend]]e, [[elektrisch isolerend]]e, [[reflecterend]]e, [[lichtdoorlatend]]e, [[slijtvast]]e en [[decoratieve]] lagen op allerlei voorwerpen en materialen (badkamerkranen, wedstrijdbekers, kunststof en glas). |
*'''[[Coaten]]''' van [[elektrisch geleidend]]e, [[elektrisch isolerend]]e, [[reflecterend]]e, [[lichtdoorlatend]]e, [[slijtvast]]e en [[decoratieve]] lagen op allerlei voorwerpen en materialen (badkamerkranen, wedstrijdbekers, kunststof en glas). |
||
* |
*[[Compact disc|CD]] en [[Digital Versatile Disc|DVD]]. |
||
==Zie ook== |
==Zie ook== |
||
Versie van 9 feb 2009 19:03
Physical vapor deposition, acroniem PVD, is het fysisch aanbrengen van een stof door dampafzetting.
Onderverdeling
Het opdampproces kan zo worden onderverdeeld:
- Bij gereduceerde atmosferische druk:
- Physical vapor deposition (PVD).
- Sputteren (ionplating/ionenimplantatie): In een plasma wordt een potentiaalverschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak.
- Pulsed laser deposition (PLD): Een pulserende laser dient als energiebron.
- Bij normale druk:
- Thin-film deposition (dunne laag afzetting): Opdampproces waarbij, net als met rijp, materiaal op een substraat (ondergrond) aangroeit.
Werkingsprincipe
Op het al dan niet verwarmde substraat wordt als gevolg van een fysische reactie, waarbij een materiaal overgaat van de vaste naar de damptoestand, opgedampt of neergeslagen.
Toepassingen
- Coaten van elektrisch geleidende, elektrisch isolerende, reflecterende, lichtdoorlatende, slijtvaste en decoratieve lagen op allerlei voorwerpen en materialen (badkamerkranen, wedstrijdbekers, kunststof en glas).
- CD en DVD.