Fotoresist: verschil tussen versies

Uit Wikipedia, de vrije encyclopedie
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
Grimlock (overleg | bijdragen)
k +interwiki fr
k robot Erbij: zh:光阻
Regel 12: Regel 12:
[[it:Photoresist]]
[[it:Photoresist]]
[[ja:フォトレジスト]]
[[ja:フォトレジスト]]
[[zh:光阻]]

Versie van 7 jun 2007 22:37

Een fotoresist is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:

  • Een positief resist (PR) wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen.
  • Een negatief resist (NR) wordt net hard door licht; door de ontwikkelingsvloeistof worden de delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden, weggespoeld.