Fotoresist: verschil tussen versies
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
k +interwiki fr |
k robot Erbij: zh:光阻 |
||
Regel 12: | Regel 12: | ||
[[it:Photoresist]] |
[[it:Photoresist]] |
||
[[ja:フォトレジスト]] |
[[ja:フォトレジスト]] |
||
[[zh:光阻]] |
Versie van 7 jun 2007 22:37
Een fotoresist is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:
- Een positief resist (PR) wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen.
- Een negatief resist (NR) wordt net hard door licht; door de ontwikkelingsvloeistof worden de delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden, weggespoeld.