Fotoresist
Uiterlijk
![](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/b/ba/Vegleich_Positiv-_und_Negativlack.svg/260px-Vegleich_Positiv-_und_Negativlack.svg.png)
Een fotoresist of fotolak is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:
- Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden worden door de ontwikkelvloeistof weggespoeld.
- Een positief resist (PR) wordt juist oplosbaar onder invloed van licht. De afgedekte delen blijven na het spoelen over.