Bestand:Ty-LithographyAndPatternTransferByEtching-nl.svg

Uit Wikipedia, de vrije encyclopedie
Naar navigatie springen Naar zoeken springen

Oorspronkelijk bestand(SVG-bestand, nominaal 953 × 589 pixels, bestandsgrootte: 28 kB)

Commons-logo.svg

Beschrijving

Beschrijving
Nederlands: Fotolithografieproces met een positief fotoresist.
Datum
Bron Eigen werk
Auteur JZ85; original by: DrTorstenHenning
Andere versies

translated version from: File:Ty-LithographyAndPatternTransferByEtching-de.svg

Licentie

Ik, de auteursrechthebbende van dit werk, maak het hierbij onder de volgende licenties beschikbaar:
GNU head Toestemming wordt verleend voor het kopiëren, verspreiden en/of wijzigen van dit document onder de voorwaarden van de GNU-licentie voor vrije documentatie, versie 1.2 of enige latere versie als gepubliceerd door de Free Software Foundation; zonder Invariant Sections, zonder Front-Cover Texts, en zonder Back-Cover Texts. Een kopie van de licentie is opgenomen in de sectie GNU-licentie voor vrije documentatie.
w:nl:Creative Commons

Naamsvermelding Gelijk delen

Dit bestand is gelicenseerd onder de Creative Commons-licenties Naamsvermelding-Gelijk delen 3.0 Unported, 2.5 Algemeen, 2.0 Algemeen en 1.0 Algemeen.
De gebruiker mag:
  • Delen – het werk kopiëren, verspreiden en doorgeven
  • Remixen – afgeleide werken maken
Onder de volgende voorwaarden:
  • Naamsvermelding – U moet de juiste creditering geven, een link naar de licentie verstrekken en aangeven of er wijzigingen zijn aangebracht. U mag dit op elke redelijke manier doen, maar niet op een manier die suggereert dat de licentiegever u of uw gebruik goedkeurt.
  • Gelijk delen – Indien de gebruiker het werk bewerkt kan het daaruit ontstane werk uitsluitend worden verspreid krachtens dezelfde licentie als de onderhavige licentie, een gelijksoortige of een compatible licentie.

U mag zelf één van de licenties kiezen.

Bestandsgeschiedenis

Klik op een datum/tijd om het bestand te zien zoals het destijds was.

Datum/tijdMiniatuurAfmetingenGebruikerOpmerking
huidige versie9 nov 2010 12:46Miniatuurafbeelding voor de versie van 9 nov 2010 om 12:46953 × 589 (28 kB)JZ85{{Information |Description={{nl|1=Fotolithografieproces met een positief fotoresist.}} |Source={{own}} |Author=JZ85 |Date=2010-11-9 |Permission= |other_versions=translated version from: [[:File:Ty-L

Dit bestand wordt op de volgende pagina gebruikt: