Fotoresist

Uit Wikipedia, de vrije encyclopedie
Dit is de huidige versie van de pagina Fotoresist voor het laatst bewerkt door 146.103.254.11 (overleg) op 27 okt 2015 15:06. Deze URL is een permanente link naar deze versie van deze pagina.
(wijz) ← Oudere versie | Huidige versie (wijz) | Nieuwere versie → (wijz)
Vergelijking van positieve en negatieve fotoresist

Een fotoresist of fotolak is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:

  • Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden worden door de ontwikkelvloeistof weggespoeld.
  • Een positief resist (PR) wordt juist oplosbaar onder invloed van licht. De afgedekte delen blijven na het spoelen over.
Overgenomen van "https://nl.wikipedia.org/w/index.php?title=Fotoresist&oldid=45192118"