Physical vapor deposition: verschil tussen versies
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
kGeen bewerkingssamenvatting |
k r2.6.5) (robot Erbij: pt:Deposição física de vapor |
||
Regel 35: | Regel 35: | ||
[[ms:Pemendapan wap fizikal]] |
[[ms:Pemendapan wap fizikal]] |
||
[[pl:Fizyczne osadzanie z fazy gazowej]] |
[[pl:Fizyczne osadzanie z fazy gazowej]] |
||
[[pt:Deposição física de vapor]] |
|||
[[ru:PVD-процесс]] |
[[ru:PVD-процесс]] |
||
[[tr:Fiziksel buhar biriktirme]] |
[[tr:Fiziksel buhar biriktirme]] |
Versie van 14 feb 2011 21:16
Physical vapor deposition, afkorting PVD, is het fysisch aanbrengen van een stof door dampafzetting.
Onderverdeling
Het opdampproces kan zo worden onderverdeeld:
- Bij gereduceerde atmosferische druk:
- Physical vapor deposition (PVD).
- Sputteren (ionplating/ionenimplantatie): In een plasma wordt een potentiaalverschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak.
- Pulsed laser deposition (PLD): Een pulserende laser dient als energiebron.
- Bij normale druk:
- Thin-film deposition (dunnelaagafzetting): Opdampproces waarbij, net als met rijp, materiaal op een substraat (ondergrond) aangroeit.
Werkingsprincipe
Op het al dan niet verwarmde substraat wordt als gevolg van een fysische reactie, waarbij een materiaal overgaat van de vaste naar de damptoestand, opgedampt of neergeslagen.
Toepassingen
- Coaten van elektrisch geleidende, elektrisch isolerende, reflecterende, lichtdoorlatende, slijtvaste en decoratieve lagen op allerlei voorwerpen en materialen (badkamerkranen, wedstrijdbekers, kunststof en glas).
- CD en DVD.