Fotoresist: verschil tussen versies

Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud

In de regel

Versie van 2 aug 2006 16:08

Een fotoresist is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:

Een positief resist (PR) wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen.
Een negatief resist (NR) wordt net hard door licht; door de ontwikkelingsvloeistof worden de delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden, weggespoeld.

@@ Regel 1: / Regel 1: @@
 Een '''fotoresist''' is een materiaal dat onder invloed van [[UV-licht]] verandert:
-* Een positiefe resist wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen.
+* Een positief resist (PR) wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen.
-* Een negatief resist wordt net hard door licht; na spoelen met de ontwikkelingsvloeistof, worden de delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden, weggespoeld.
+* Een negatief resist (NR) wordt net hard door licht; door de [[ontwikkelingsvloeistof]] worden de delen die zich achter het [[belichtingsmasker]] bevonden, weggespoeld.