Fotoresist: verschil tussen versies
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
Geen bewerkingssamenvatting |
Geen bewerkingssamenvatting |
||
| Regel 1: | Regel 1: | ||
{{nocat}} |
|||
Een '''fotoresist''' is een materiaal dat onder invloed van [[UV-licht]] verandert: |
Een '''fotoresist''' is een materiaal dat onder invloed van [[UV-licht]] verandert: |
||
* Een positief resist (PR) wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen. |
* Een positief resist (PR) wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen. |
||
Versie van 14 aug 2006 01:27
Een fotoresist is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:
- Een positief resist (PR) wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen.
- Een negatief resist (NR) wordt net hard door licht; door de ontwikkelingsvloeistof worden de delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden, weggespoeld.