Fotoresist: verschil tussen versies
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
k robot Erbij: ru:Фоторезист |
k robot Anders: id:Fotoresis |
||
| Regel 9: | Regel 9: | ||
[[en:Photoresist]] |
[[en:Photoresist]] |
||
[[fr:Photorésist]] |
[[fr:Photorésist]] |
||
[[id: |
[[id:Fotoresis]] |
||
[[it:Photoresist]] |
[[it:Photoresist]] |
||
[[ja:フォトレジスト]] |
[[ja:フォトレジスト]] |
||
Versie van 25 aug 2008 16:27
Een fotoresist is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:
- Een positief resist (PR) wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen.
- Een negatief resist (NR) wordt net hard door licht; door de ontwikkelingsvloeistof worden de delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden, weggespoeld.