Fotoresist: verschil tussen versies
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
k r2.7.2) (Robot: toegevoegd: ms:Fotoresis |
k r2.7.3) (Robot: gewijzigd: ms:Fotorintang |
||
| Regel 13: | Regel 13: | ||
[[ja:フォトレジスト]] |
[[ja:フォトレジスト]] |
||
[[kk:Фоторезист]] |
[[kk:Фоторезист]] |
||
[[ms: |
[[ms:Fotorintang]] |
||
[[ru:Фоторезист]] |
[[ru:Фоторезист]] |
||
[[uk:Фоторезист]] |
[[uk:Фоторезист]] |
||
Versie van 16 jul 2012 15:52
Een fotoresist is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:
- Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden worden door de ontwikkelvloeistof weggespoeld.
- Een positief resist (PR) wordt juist oplosbaar onder invloed van licht. De afgedekte delen blijven na het spoelen over.