Fotoresist: verschil tussen versies
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
k r2.7.3) (Robot: gewijzigd: ms:Fotorintang |
k Robot: Verplaatsing van 11 interwikilinks. Deze staan nu op Wikidata onder d:q1439684 |
||
| Regel 5: | Regel 5: | ||
[[Categorie:Materiaal]] |
[[Categorie:Materiaal]] |
||
[[Categorie:Licht]] |
[[Categorie:Licht]] |
||
[[de:Fotolack]] |
|||
[[en:Photoresist]] |
|||
[[fr:Résine photosensible]] |
|||
[[id:Fotoresis]] |
|||
[[it:Photoresist]] |
|||
[[ja:フォトレジスト]] |
|||
[[kk:Фоторезист]] |
|||
[[ms:Fotorintang]] |
|||
[[ru:Фоторезист]] |
|||
[[uk:Фоторезист]] |
|||
[[zh:光刻胶]] |
|||
Versie van 13 mrt 2013 09:26
Een fotoresist is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert:
- Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden worden door de ontwikkelvloeistof weggespoeld.
- Een positief resist (PR) wordt juist oplosbaar onder invloed van licht. De afgedekte delen blijven na het spoelen over.