RCA-reiniging

De RCA-reiniging (RCA clean) is een reeks standaardreinigingen om halfgeleiderchips schoon te maken. Het doel is om organische stoffen (1), oxidelagen (2) en ionische contaminanten (3) te verwijderen.

Reinigingsprocedure

• standard cleaning procedure step a (sc1): 1:1:5-verhouding NH₄OH + H₂O₂ + H₂O bij 75°C gedurende 10 min. Deze procedure zorgt echter voor een zekere oxidevorming (1 nm SiO₂) en enige metallische (Fe) verontreiniging, die in de volgende stappen verwijderd zal worden.
• Tussenin spoelen in gedestilleerd water in een ultrasoon reinigingsbad.
• standard cleaning procedure step b: 1:50-verhouding HF + H₂O 25°C gedurende enkele minuten. Deze stap verwijdert alle SiO₂ en enige ionische contaminanten.
• Tussenin spoelen in gedestilleerd water in een ultrasoon reinigingsbad.
• standard cleaning procedure step c (sc2): 1:1:6-verhouding HCl + H₂O₂ + H₂O bij 75°C gedurende 10 min. De laatste stap verwijdert de laatste sporen metallische en ionische vervuiling.
• Achteraf spoelen in gedestilleerd water in een ultrasoon reinigingsbad.