ARCNL
| ARCNL | ||||
|---|---|---|---|---|
| ||||
Advanced Research Center for Nanolithography
| ||||
| Geschiedenis | ||||
| Opgericht | 2014 | |||
| Structuur | ||||
| Voorzitter | Prof. dr. Joost Frenken | |||
| Hoofdkantoor | Science Park 106, 1098 XG Amsterdam, Netherlands | |||
| Aantal werknemers | ca 100 | |||
| Media | ||||
| Website | https://arcnl.nl/ | |||
| ||||
Het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL) is een publiek-private samenwerking tussen de Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek (NWO)[1], de Universiteit van Amsterdam (UvA)[2], de Vrije Universiteit Amsterdam (VU)[2] en ASML[3], producent van machines voor de computerchipindustrie.
ARCNL is gestart op 1 januari 2014[4] en vormt sinds 1 september 2015 een zelfstandig organisatieonderdeel binnen NWO-I[5]. Bij ARCNL werken ongeveer 100 mensen, waarvan 90 onderzoekers en technici[6]. ARCNL is gevestigd in het Matrix VII[7] gebouw op het Amsterdam Science Park.
Onderzoek[bewerken | brontekst bewerken]
ARCNL richt zich op de fundamentele fysica en chemie achter de huidige en toekomstige technologie voor nanolithografie, in het bijzonder voor toepassing in de halfgeleiderindustrie. Het wetenschappelijk programma[8] van ARCNL is nauw verbonden met de interessegebieden van ASML. Een groot deel van dit programma is gericht op de fysische en chemische processen die cruciaal zijn voor nanolithografie met extreem ultraviolet (EUV) licht. Het onderzoek van ARCNL is gebundeld in 3 afdelingen:
- Source: fysica achter het genereren van EUV licht
- Metrology: nieuwe principes voor het maken van nauwkeurige afbeeldingen en precisiemetingen
- Materials: materiaalfysica voor toepassing in lithografie-instrumentatie
ARCNL neemt internationaal een toppositie in bij het onderzoek op deze drie terreinen
Externe links[bewerken | brontekst bewerken]
Referenties[bewerken | brontekst bewerken]
- ↑ Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek
- ↑ a b Science Research at UvA-VU: ARCNL - [apr-jun - Faculteit der Bètawetenschappen]. beta.vu.nl. Gearchiveerd op 24 oktober 2018. Geraadpleegd op 24 oktober 2018.
- ↑ ASML
- ↑ (en) Advanced Research Center for Nanolithography starts on 1 January 2014 - ARCNL. Gearchiveerd op 11 oktober 2021. Geraadpleegd op 13 oktober 2021.
- ↑ NWO-I, Institutenorganisatie van NWO. Gearchiveerd op 9 oktober 2021. Geraadpleegd op 13 oktober 2021.
- ↑ (en) People at ARCNL. Gearchiveerd op 11 oktober 2021. Geraadpleegd op 13 oktober 2021.
- ↑ (en) Matrix VII. Gearchiveerd op 15 april 2021. Geraadpleegd op 13 oktober 2021.
- ↑ (en) ARCNL Research. Gearchiveerd op 11 oktober 2021. Geraadpleegd op 13 oktober 2021.