ARCNL

Uit Wikipedia, de vrije encyclopedie
Naar navigatie springen Naar zoeken springen
ARCNL
Advanced Research Center for Nanolithography
Geschiedenis
Opgericht 2014
Structuur
Voorzitter Prof. dr. Joost Frenken
Hoofdkantoor Science Park 106, 1098 XG Amsterdam, Netherlands
Aantal werknemers ca 100
Media
Website https://arcnl.nl/
Portaal  Portaalicoon   Wetenschap & Technologie

Het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL) is een publiek-private samenwerking tussen de Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek (NWO)[1], de Universiteit van Amsterdam (UvA)[2], de Vrije Universiteit Amsterdam (VU)[2] en ASML[3], producent van machines voor de computerchipindustrie.

ARCNL is gestart op 1 januari 2014[4] en vormt sinds 1 september 2015 een zelfstandig organisatieonderdeel binnen NWO-I[5]. Bij ARCNL werken ongeveer 100 mensen, waarvan 90 onderzoekers en technici[6]. ARCNL is gevestigd in het Matrix VII[7] gebouw op het Amsterdam Science Park.

Onderzoek[bewerken | brontekst bewerken]

ARCNL richt zich op de fundamentele fysica en chemie achter de huidige en toekomstige technologie voor nanolithografie, in het bijzonder voor toepassing in de halfgeleiderindustrie. Het wetenschappelijk programma[8] van ARCNL is nauw verbonden met de interessegebieden van ASML. Een groot deel van dit programma is gericht op de fysische en chemische processen die cruciaal zijn voor nanolithografie met extreem ultraviolet (EUV) licht. Het onderzoek van ARCNL is gebundeld in 3 afdelingen:

  • Source: fysica achter het genereren van EUV licht
  • Metrology: nieuwe principes voor het maken van nauwkeurige afbeeldingen en precisiemetingen
  • Materials: materiaalfysica voor toepassing in lithografie-instrumentatie

ARCNL neemt internationaal een toppositie in bij het onderzoek op deze drie terreinen

Externe links[bewerken | brontekst bewerken]

Referenties[bewerken | brontekst bewerken]

  1. Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek
  2. a b Science Research at UvA-VU: ARCNL - [apr-jun - Faculteit der Bètawetenschappen]. beta.vu.nl. Geraadpleegd op 24 oktober 2018.
  3. ASML
  4. (en) Advanced Research Center for Nanolithography starts on 1 January 2014 - ARCNL. Geraadpleegd op 13 oktober 2021.
  5. NWO-I, Institutenorganisatie van NWO. Geraadpleegd op 13 oktober 2021.
  6. (en) People at ARCNL. Geraadpleegd op 13 oktober 2021.
  7. (en) Matrix VII. Geraadpleegd op 13 oktober 2021.
  8. (en) ARCNL Research. Geraadpleegd op 13 oktober 2021.